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[发明专利]用于将局部剂定向施用到孤立身体部分的系统-CN201780080333.1有效
发明人： M·阿拉瑞;P·霍普森;J-J·刘;E·伦德;B·帕特尔;E·莫拉诺 -专利权人：强生消费者公司
申请日： 2017-12-21 - 公布日： 2022-12-06 - 主分类号： A61K8/368 文献下载
摘要：本发明公开的系统包括：涂敷器膜，所述涂敷器膜具有涂敷器表面，所述涂敷器表面具有对应于所述孤立身体部分的三维形状；以及至少一个膜，所述至少一个膜可剥离地设置在所述涂敷器表面上并且具有外表面和内粘合表面，所述外表面与所述涂敷器表面呈面对关系所述膜包含设置在一个或多个治疗区中的一种或多种有益剂。
用于局部定向施用孤立身体部分系统

[发明专利]薄膜双面自动对位间歇式涂敷方法-CN201110458175.3无效
发明人：夏泽中;陈静;袁佑新;肖纯;王清 -专利权人：武汉理工大学
申请日： 2011-12-31 - 公布日： 2012-07-04 - 主分类号： B32B37/15 文献下载
摘要：本发明提供的是一种薄膜双面自动对位间歇式涂敷方法，尤其是能够在待涂敷薄膜上间歇地涂敷两层敷膜材料，具体方法是：将第一涂敷膜组件、待涂敷膜组件、第二涂敷膜组件分别布置在上（5）中（7）下（6）三个位置上，用一个色标传感器（2）检测位于待涂敷膜组件上的涂敷窗口（1），当检测到窗口的右边缘后，通过液压传动设备（4）将上下两个转印压辊（3）同时向着中间的待涂敷膜辊压，在涂敷窗口得到具有一定长和宽的复合膜。本发明与现有的多层复合膜制作工艺相比较，具有工艺过程简单，对位涂敷精度高，定位易于控制，可以实现复合膜的间歇式涂敷，便于批量制造等优点。
薄膜双面自动对位间歇式涂敷方法

[发明专利]涂敷膜转印器-CN200910001294.9有效
发明人：牛嶋润 -专利权人：普乐士文具株式会社
申请日： 2009-01-16 - 公布日： 2009-07-22 - 主分类号： B43L19/00 文献下载
摘要：本发明为了提供一种吸收施加在突出于壳体外面的转印头上的压力以提高操作性的涂敷膜转印器，涂敷膜转印器1在将转印头能够进出地装填于收纳壳体的涂敷膜转印器中，在收纳壳体4内部装填涂敷膜转印部2；该涂敷膜转印部2具备：在内部配备供给线轴、卷取线轴、连动前述供给线轴和卷取线轴的旋转的旋转传递装置，并悬架从前述供给线轴拉出的转印带的、且突出设置的转印头；从前述收纳壳体4的后端突出的敲击构件；配置在前述涂敷膜转印部和敲击构件之间的旋转构件及旋转支承构件；使前述涂敷膜转印部向后方施力的弹性构件，并且由于前述旋转支承构件具备挠曲可能的支承臂，涂敷膜转印部2能够在收纳壳体4内部前后微动。
涂敷膜转印器

[发明专利]半导体激光器及其制造方法-CN00126951.8有效
发明人：根本和彦 -专利权人：索尼株式会社
申请日： 2000-09-08 - 公布日： 2001-03-14 - 主分类号： H01S5/028 文献下载
摘要：一种可发射振荡波长不同的多个激光的半导体激光器及其制造方法,该半导体激光器具有位于基板上的多个成分不同的活性层,其中具有在激光出射侧的前端面上形成的前面涂敷膜、和在所述前端面的里侧的后端面上形成的后面涂敷膜,该后面涂敷膜的反射率比所述前面涂敷膜高;所述前面涂敷膜和后面涂敷膜的膜厚分别设定为使得对于具有处于所述振荡波长的最小值和最大值之间的预定波长的光,反射率为最大值。
半导体激光器及其制造方法

[发明专利]玻璃基板的涂膜装置及方法-CN200410002098.0无效
发明人：李昌夏;任祥在;金圣撤;奇永宰;柳炅沅 -专利权人：三星康宁精密琉璃株式会社
申请日： 2004-01-15 - 公布日： 2005-06-08 - 主分类号： C03C23/00 文献下载
摘要：本发明提供一种玻璃基板的涂膜装置及方法。其在有效利用洁净室、使停工时间及玻璃基板的振动、异物的附着等最小化的同时，向大型玻璃基板涂敷薄膜。包含：加载输送机，以垂直状态两面非接触地浮起玻璃基板进行传送；第1及第2涂膜器，其被垂直安装，以便向从上述加载输送机排出的玻璃基板的两面涂敷薄膜；涂敷器传送设备，用于使上述第1及第2涂膜器分别在涂敷位置和供给位置之间移动；卸载输送机，将两面涂敷了薄膜的玻璃基板向一个方向传送；以及控制机构，控制上述加载/卸载输送机、第1及第2涂膜器及涂敷器传送设备的动作。
玻璃装置方法

[发明专利]基板处理方法以及基板处理装置-CN200610163747.4有效
发明人：寺田正一;水野刚资;上原健 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2006-11-24 - 公布日： 2007-05-30 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明的基板处理方法，向在表面具有凹凸的基板供给涂敷液而在基板表面上形成涂敷膜，向旋转的基板供给涂敷液，在基板的表面上形成涂敷膜，对形成有涂敷膜的基板加热，调整涂敷膜的蚀刻条件。接着，对旋转的基板供给蚀刻液，对涂敷膜进行蚀刻后，对基板供给涂敷液，在基板表面上形成平坦状的涂敷膜。其后，对基板进行加热而使涂敷膜固化。由此，无需经过化学机械研磨那样的高负荷工艺，可实现均匀且高精度的涂敷膜的平坦化。
处理方法以及装置

[发明专利]涂敷膜形成方法和涂敷膜形成装置-CN202010348387.5有效
发明人：池田文彦 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-04-28 - 公布日： 2023-05-26 - 主分类号： B05D5/06 文献下载
摘要：本发明提供涂敷膜形成方法和涂敷膜形成装置。该涂敷膜形成方法在基片形成含有液晶性材料的涂敷膜，该方法包括：一边使保持基片的保持部与涂敷部相对地移动，一边从上述涂敷部释放含有上述液晶性材料的涂敷液，在基片涂敷上述涂敷液而形成涂敷膜的步骤；以及之后在使上述液晶性材料的分子取向的拉伸取向区域与调节上述涂敷膜的温度的调温区域的边界，从供气部对上述涂敷膜的表面供给调温气体的步骤。本发明能够在基片涂敷含有液晶性材料的涂敷液，使液晶性材料的分子适当地取向而形成涂敷膜。
涂敷膜形成方法装置

[发明专利]涂敷膜形成方法以及涂敷膜形成装置-CN200980000495.5有效
发明人：野野川正巳;市川明昌 -专利权人：日本碍子株式会社
申请日： 2009-01-29 - 公布日： 2010-03-31 - 主分类号： B05D1/18 文献下载
摘要：本发明提供一种涂敷膜形成方法，将要形成涂敷膜的涂敷对象物设置在浸渍槽内，将用于形成上述涂敷膜的涂敷液送入上述浸渍槽内，在使上述涂敷液的液面上升到上述涂敷对象物的要形成涂敷膜的部位的最上部浸泡在上述涂敷液之后，通过将上述涂敷液向上述浸渍槽外排出而使上述涂敷液的液面降下去，从而在上述涂敷对象物上形成涂敷膜。
涂敷膜形成方法以及装置

[发明专利]用于平板显示面板的涂敷膜厚测量装置和方法-CN200810247514.1有效
发明人：陈超;郑彦标;王鹏年 -专利权人：四川虹欧显示器件有限公司
申请日： 2008-12-30 - 公布日： 2010-06-02 - 主分类号： G01B21/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于平板显示面板的涂敷膜厚测量装置，具体包括：传感器和移动模块，其中，传感器安装在移动模块上；移动模块可以沿涂敷方向和喷嘴方向移动。在本发明的实施例中，还提供了一种用于平板显示面板的涂敷膜厚测量方法，具体包括以下步骤：在涂敷过程中，传感器随横梁沿涂敷方向做直线运动，同时在垂直于涂敷方向的喷嘴方向做直线运动，记录传感器在涂敷方向、喷嘴方向的位置信息和没有涂层的基板厚度数据信息；在喷嘴和传感器返回到涂敷起始点位置过程中，传感器的完全按照涂敷过程中的轨迹运动，记录在涂敷方向、喷嘴方向的位置信息和有涂层的基板厚度数据信息。
用于平板显示面板涂敷膜厚测量装置方法

[发明专利]涂敷膜的干燥方法及干燥装置-CN201010528747.6有效
发明人：浜本伸夫 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2007-09-26 - 公布日： 2011-04-13 - 主分类号： B05D3/02 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种通过在对刚涂敷后的涂敷膜面进行干燥时将支撑体的温度设定成低于涂敷膜面的温度，来排除在涂敷膜的初期干燥中对支撑体的影响，从而能够均一地干燥涂敷膜的干燥方法及装置。所述涂敷膜的干燥方法是一种向行进的长条状支撑体(12)涂敷含有有机溶剂的涂敷液而形成的涂敷膜的干燥方法，其特征在于，涂敷前的所述长条状支撑体(12)的温度Tb比该涂敷液的温度Tc低2℃以上，而且涂敷后的涂敷膜附近的风速为
涂敷膜干燥方法装置

[发明专利]涂敷膜的干燥方法及干燥装置-CN200710154375.3有效
发明人：浜本伸夫 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2007-09-26 - 公布日： 2008-04-02 - 主分类号： G02B5/30 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种通过在对刚涂敷后的涂敷膜面进行干燥时将支撑体的温度设定成低于涂敷膜面的温度，来排除在涂敷膜的初期干燥中对支撑体的影响，从而能够均一地干燥涂敷膜的干燥方法及装置。所述涂敷膜的干燥方法是一种向行进的长条状支撑体(12)涂敷含有有机溶剂的涂敷液而形成的涂敷膜的干燥方法，其特征在于，涂敷前的所述长条状支撑体(12)的温度Tb比该涂敷液的温度Tc低2℃以上，而且涂敷后的涂敷膜附近的风速为
涂敷膜干燥方法装置

[实用新型]涂敷装置和补锂设备-CN202221382406.7有效
发明人：陈锦华;谢斌;陈仕通;李克强 -专利权人：宁德时代新能源科技股份有限公司
申请日： 2022-06-06 - 公布日： 2023-01-10 - 主分类号： B05C1/08 文献下载
摘要：本申请提供了一种涂敷装置和补锂设备。涂敷装置包括涂敷组件、测厚组件和调节组件，涂敷组件用于向待涂敷件涂敷膜层；测厚组件沿膜层的输送方向设于涂敷组件的下游，用于测量膜层的厚度；调节组件沿输送方向设于涂敷组件和测厚组件之间，调节组件被配置为根据测厚组件所测量的厚度调节膜层的厚度通过涂敷组件向待涂敷件的表面添加涂敷料，以在待涂敷件上形成膜层，同时，通过测厚组件测量待涂敷件表面膜层的厚度，然后通过调节组件调节膜层的厚度，以使待涂覆件上的膜层厚度处于预设厚度范围内，提高了涂敷装置的涂敷效果
装置设备

[发明专利]二次电池卷绕系统的分离膜切割器刷洗装置-CN201410210709.4有效
发明人：李癸卨 -专利权人：科爱慕株式会社
申请日： 2014-05-19 - 公布日： 2019-05-31 - 主分类号： H01M10/0587 文献下载
摘要：本发明涉及一种二次电池卷绕系统的分离膜切割器刷洗装置，为分离膜切割过程中所产生的电极涂敷物质去除装置。更详细地，当为了卷绕电极（分离膜）而以规定的长度进行切割作业时，电极分离膜被切割且表面的涂敷物质飞散，此时，本发明能够去除涂敷物质，并且，本发明提供构成能够吸入向切割部的一端飞散的涂敷物质并向系统的外部排出的吸入单元，用于防止在系统内堆积从电极脱离的涂敷物质的在二次电池卷绕系统的分离膜切割过程中所产生的电极涂敷物质去除装置。根据本发明，能够在每当切割分离膜时擦拭切割刀片，来解决作为涂敷物质的陶瓷粉引起的问题，并能提高生产率，有利于设备的维修。
二次电池卷绕系统分离切割刷洗装置

[发明专利]偏振膜的制造方法及偏振膜的制造装置-CN202010679313.X在审
发明人：山崎达也;久保田大辉;铃木秀仁 -专利权人：日东电工株式会社
申请日： 2020-07-15 - 公布日： 2021-01-19 - 主分类号： G02B5/30 文献下载
摘要：本发明提供可以保持起偏镜与其它膜之间的良好的粘接性的偏振膜的制造方法等。该偏振膜的制造方法包括：分别运送起偏镜(11)和其它膜(12、13)，在它们的运送过程中，通过粘接剂涂敷装置(54)对起偏镜及其它膜中的至少一者涂敷活性能量射线固化型粘接剂的粘接剂涂敷工序；以及利用粘接剂将起偏镜与其它膜贴合并使粘接剂固化，从而制作偏振膜(1)的偏振膜制作工序。粘接剂涂敷装置具备连续地测定待进行涂敷的粘接剂的粘度的粘度计(54e)，在粘接剂涂敷工序中，控制装置(58)控制粘接剂的温度(热交换器(54f)的热介质的温度)，使得通过粘度计测定的粘接剂的粘度的变化处于一定范围内
偏振制造方法装置

[发明专利]涂膜形成方法及涂膜形成装置以及调色涂料制作方法-CN200580039848.4无效
发明人：竹内彻 -专利权人：关西涂料株式会社
申请日： 2005-11-18 - 公布日： 2007-10-24 - 主分类号： B05D3/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种涂膜形成方法以及涂膜形成装置，其能够高效形成具有与实际涂敷工序的涂敷条件下的完成状态相同的完成状态的涂膜，另外，提供一种高效制作所希望的调色涂料的调色涂料的制作方法。该涂膜形成方法是用于再现在实际涂敷工序中将涂料对被涂敷物雾化喷射形成的涂膜的完成状态的涂膜形成方法，其中，具有配合实际涂敷工序的气氛条件控制涂敷室(22)内的温度以及湿度的空调步骤、在涂敷室(22)内通过雾化喷射涂料的涂膜雾化装置(30)在被涂敷物(50)上形成涂膜的涂膜步骤，其中，所述涂膜步骤，包括配合实际涂敷工序的涂敷条件控制从涂料雾化装置(30)雾化喷射的涂料的喷雾图案中的雾化粒子的直径、雾化粒子浓度以及雾化粒子的速度决定步骤、根据由实际涂敷工序中的涂膜形成时间和涂膜膜厚的变化关系决定的涂膜形成曲线控制涂料雾化装置(30)和被涂敷物(50)的相对移动的涂膜形成步骤。
形成方法装置以及调色涂料制作方法

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